半導(dǎo)體潔凈室的潔凈度如何確定
時間：2023-11-23 14:16 點擊次數(shù)：
由于半導(dǎo)體工業(yè)所制作的集成電路元件尺寸越來越小， 在一塊小小的芯片上， 整合了許許多多的元器件， 因此在制造的過程中就須防止外界雜質(zhì)污染源(包括塵埃、 金屬離子、 各類有機物等) ， 因為這些污染源可以造成元器件性能的劣化及產(chǎn)品成品率和可靠性的降低。 所以制造集成電路須在潔凈的環(huán)境中進行， 以盡量將污染源和硅片隔離。
光電技術(shù)是繼微電子技術(shù)之后近年來迅速發(fā)展的新興技術(shù)，它集中了固體物理、導(dǎo)波光學(xué)、材料科學(xué)、微細加工和半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)的科研成就，是電子技術(shù)與光學(xué)技術(shù)自然結(jié)合與擴展的新興交叉學(xué)科，對于國民經(jīng)濟、科技和國防都具有重要的戰(zhàn)略意義。光學(xué)技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域和微電子技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域基本一致，但由于光學(xué)技術(shù)有超越微電子技術(shù)的優(yōu)良性能和發(fā)展?jié)摿Γ瑑烧呓Y(jié)合起來的綜合技術(shù)在信息技術(shù)、加工制造、醫(yī)學(xué)、軍事等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。微電子和光電領(lǐng)域產(chǎn)品的制造工藝是一個復(fù)雜的過程，技術(shù)難度和成本均較高，對生產(chǎn)環(huán)境要求也較高，生產(chǎn)工藝對環(huán)境的空氣潔凈度等級、溫度、濕度和高純物質(zhì)的供應(yīng)等均有較嚴(yán)格的要求。潔凈室技術(shù)在微電子和光電領(lǐng)域目前均已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用。
近年來世界IC半導(dǎo)體技術(shù)迅速發(fā)展，潔凈室工程技術(shù)目前正向分子控制等方向發(fā)展。
AMC（即“空氣分子污染”）對IC半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)中產(chǎn)生的潛在影響比粒子污染要廣泛得多且更難以鑒別，AMC日益成為IC半導(dǎo)體行業(yè)在生產(chǎn)中所關(guān)心的重要問題。塵埃粒子計數(shù)器粒子污染控制只需要確定粒徑及個數(shù)，但對AMC控制而言，除了受到IC半導(dǎo)體芯片線徑的縮小而變化外，還受到工藝、設(shè)備、材料及傳送系統(tǒng)等的影響；此外，用于某一工序的各種工藝材料（化學(xué)品、特種氣體等）在通常情況下其微量分子殘余可能成為下一工序的污染物。因此，精密電子工業(yè)如IC半導(dǎo)體企業(yè)的生產(chǎn)過程中某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響產(chǎn)品良率的重要問題，AMC控制技術(shù)成為潔凈室檢測設(shè)計與施工建設(shè)的主流趨勢。
潔凈室需經(jīng)過空態(tài)、靜態(tài)和動態(tài)的驗收，任何一個環(huán)節(jié)都可能存在風(fēng)險；同時，在工廠正式投入生產(chǎn)后，潔凈室出現(xiàn)運行問題的可能性也很大。因此潔凈室工程行業(yè)內(nèi)企業(yè)在市場競爭中面臨較大的工程技術(shù)風(fēng)險。
潔凈室行業(yè)的區(qū)域性特征則較為明顯。作為下游行業(yè)的配套性基礎(chǔ)設(shè)施，潔凈室的應(yīng)用依賴于高科技電子、醫(yī)藥醫(yī)療等相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，而從整體來看，產(chǎn)業(yè)集群化發(fā)展日益成為電子、生物制藥等高技術(shù)產(chǎn)業(yè)和新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢，并呈現(xiàn)出明顯的地域特征。目前，潔凈室工程的區(qū)域市場的分布取決于潔凈室下游行業(yè)的區(qū)域需求，國內(nèi)大部分潔凈室的需求在地域上主要集中在長江三角洲、珠江三角洲、環(huán)渤海地區(qū)和福建沿海地區(qū)，以及成都、重慶、武漢等高科技企業(yè)集中的城市。
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